我们的专长
我们的技术可同时用于研究和生产
DTL
位移Talbot光刻（DTL）是一种大有前途的纳米加工方法，它利用Talbot效应来制造精确的纳米结构。它高效、可扩展且具有成本效益，是光子学、电子和纳米医学应用的理想选择，从而推动了纳米技术领域的发展。
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PHABLE™
Eulitha的PHABLE™（PHOTONICS ENABLER）技术是一种独特的光刻系统，能够高生产能力、低成本地制造周期性纳米结构。它使用非接触式、接近式UV光刻，可以产生亚微米分辨率的图案，非常适合光子学和光电子等领域的应用。
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EBEAM
电子束光刻是一种用于高分辨率纳米制造的技术。它使用聚焦的电子束在覆盖有电子敏感膜的表面上加工出自定义图案。由于其精确性，此技术对于研究和原型设计仍然至关重要。
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