EBEAM
Eulitha的愿景是通过创新的纳米光刻技术，成为提高光子器件性能和效率的卓越解决方案提供商。提供创新的纳米光刻解决方案，通过提高性能和效率释放光子器件的潜力。
电子束光刻（EBL）是一种重要的纳米制造工具，能够制作复杂的纳米级图案。它的工作原理类似于电子显微镜，将设计的图案蚀刻在对电子敏感的抗蚀剂上。尽管EBL的高分辨率能力比其他光刻方法更慢、成本更高，但它对微电子和纳米技术等领域的研究和原型制作来说是非常宝贵的。EULITHA利用这项技术，以及突破性的EUV技术，生产大面积、高分辨率的周期性纳米结构。我公司在Paul Scherrer研究所的洁净室中运营，采用最先进的电子束系统（Vistec EBPG 5000ES），能够加工分辨率低至20nm的结构。
在利用我们突破性的EUV技术生产大面积、高分辨率周期性纳米结构的同时，我们还为需要电子束光刻任意结构的研究人员和公司提供服务。EULITHA正在使用先进的电子束系统（Vistec EBPG 5000ES）制造纳米结构，该系统位于Paul Scherrer研究所的洁净室，EULITHA的生产就是在这里进行的。该机器是世界上非常好的高斯光束工具之一，使我们能够快速制造分辨率低至20 nm的结构。
主要功能：
我们的能力：
