Eulitha的光电结构模板采用其具有革命性的PHABLE™技术，以合理的价格提供高质量产品。经过优化的硅和石英蚀刻工艺可产生具有轻微正斜率的孔和柱图案，从而简化压印工艺。同时可提供四方和六方晶格以及线性光栅的标准模板。

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应用广泛，包括:

• 纳米压印工艺及产品开发
• 激光衍射光栅
• 等离子
• 防反射结构
• 线栅偏振器
• 传感器阵列
• 晶体生长模板
• 研究与开发

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PHABLE™ 制备标准图案:

• 光电结构模板标准配置为 4″ 硅或熔融石英基底
• 在大多数情况下，这些标准图案可以在客户的晶圆上制作，例如在GaN或蓝宝石晶圆上制作的光刻胶图案
• 在某些情况下，可根据要求提供其他基底上的模板，例如75mm, 150mm和200mm晶圆
• 可根据要求切割成尺寸较小的基底
• 孔或柱的特征直径约为图案间距的一半
• 如果需要其他图案周期，如小孔或柱，请联系我们
• 模板可根据客户要求的特征高度定做
• 可咨询超过产品表中所示最大值的不同特征高度
• 所有 NIL 纳米压印模板均可选配防粘涂层和切割服务