PhableX
PHABLE设备基于Eulitha采用的位移塔尔博特光刻(DTL)技术，通过低成本的光刻系统提供无与伦比的高分辨率光刻。DTL克服了传统光刻中衍射的局限性，可曝光出质量优异的亚微米周期图案。非接触式曝光可同时保护掩模版和晶圆，已获专利的无聚焦成像技术可实现在非平面基材和厚光刻胶上进行均匀曝光。
设备PhableX是为光子学用户提供的半自动/自动解决方案。料盒进-料盒出的设计提高了一致性和产能。自动掩模版和晶圆对准及处理，使PhableX成为一个对操作人员非常友好的解决方案。
如亚微米周期线性光栅和二维图案等结构(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均匀性和保真度。
应用广泛，包括:
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