Eulitha 优利赛尔将参加2026年第七届光电子集成芯片立强大会，本次论坛将于8 月 21‑23 日在中国西安举办。

会上我司将作专题报告 ——《位移泰伯光刻：面向光芯片规模化制造的解决方案》，深度解析 DTL 技术在光子芯片大批量生产中的技术优势与应用价值。 盼与您现场相聚，围绕光子集成前沿技术、产业发展机遇开展深度交流。