PhableS
PHABLE设备基于Eulitha采用的位移塔尔博特光刻(DTL)技术，通过低成本的光刻系统提供无与伦比的高分辨率光刻。DTL克服了传统光刻中衍射的局限性，可曝光出质量优异的亚微米周期图案。非接触式曝光可同时保护掩模版和晶圆，已获专利的无聚焦成像技术可实现在非平面基材和厚光刻胶上进行均匀曝光。
PhableS是一款步进重复光刻设备，能以低成本的光刻系统在最大 300 mm的晶圆上曝光出高分辨率的周期性结构。此外，该设备的可变场尺寸功能可以在多个器件掩模上进行选择性打印。可在微粒控制的微型环境中自动处理晶圆和掩膜。该设备可适用于大批量工业生产。Eulitha的突破性位移塔尔博特光刻(DTL)技术可在非接触配置下实现接近波长极限的高分辨率曝光，如亚微米周期线性光栅和二维图案等结构(如六方和四方晶格曝光)，具有高均匀性和保真度。该技术与几十年来成功用于半导体微加工技术的光刻方法有着相同的材料和工艺解决方案。
应用广泛，包括:
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