我们的光刻服务业务为纳米尺度的图案结构提供尖端的解决方案。我们采用先进的技术，在纳米结构的制造中实现了卓越的精度和分辨率。Eulitha的光刻服务适合广泛的应用，包括半导体，光学，生物医学元件等。

作为新型光刻方法和系统的开发者，Eulitha对曝光过程的所有步骤都具有较高的竞争能力。我们的员工具备所有这些步骤的经验，包括光学曝光，电子束曝光，数据准备，掩模版设计，光学模拟，光刻胶材料选择及应用，涂胶，蚀刻，SEM和AFM表征等等。此外，Eulitha还运营一个演示实验室，拥有UV紫外和DUV深紫外范围内的Phable曝光工具以及其他加工和表征设备。

我们利用我们强大的背景和能力来满足客户对定制图案服务的需求，这是在与客户密切合作的情况下完成的，重点是应用最有效的最先进的解决方案来满足客户的要求，我们经验丰富的工程师和科学家团队确保达到最高的质量标准，为客户提供可靠和可重复的结果。我们提供短周期和开放、直接的沟通。

Eulitha利用其独特的PHABLE光刻技术来验证光子学中的新原型和应用。我们的目标是使我们的客户能够以快速有效的方式评估我们的解决方案是否适合他们的制造中的问题。这个过程充分利用了我们领先的人力和设备资源。

Eulitha的应用验证，也称为我们的demolab服务，使用我们的PHABLE技术加快了新生产工艺和产品的验证。该过程通常从了解客户对其特定应用的图案需求开始，在各种应用领域经验丰富的Eulitha的工程和研究团队，与客户团队密切合作，开发和测试生产策略。通常，部分工艺，特别是涉及光刻曝光的部分，在Eulitha实验室进行，而其他部分，特别是涉及最终设备集成和测试的部分，在客户现场进行。Eulitha同时也与光刻领域的其他重要参与者(如光刻胶和掩膜制造商)合作，提供该领域先进的解决方案。

Eulitha为学术和工业客户提供Ebeam电子束曝光服务，可以直接用于实验和器件，也可以用于复制模板的生产。

典型的生产周期包括以下步骤:

1. 客户要求的规格说明，例如衬底、图案布局、分辨率、特征高度和轮廓。
2. Eulitha提供建议，包括考虑质量，成本和可制造性的替代方法。
3. 将基板和布局文件(如果适用)从客户转移到Eulitha。
4. 通过Ebeam曝光完成图案，包括任何图案的转移步骤，例如蚀刻。
5. 表征(如扫描电镜，光学显微镜)。

我们的能力

• 领先的硅和石英纳米压印模板生产专业知识。
• 特征尺寸(分辨率)低至50nm。
• 先进的100kV电子束曝光。
• 在Ebeam电子束曝光机方面领先的经验，以较大限度地提高产量和优化图案保真度。
• 选择合适的电子束胶以符合应用需求。
• 大至6“圆形，和5”方形基板。
• 可选涂防粘层和切片服务。