EULITHA采用先进的电子束系统来制作纳米结构(Vistec EBPG 5000ES).

该机器是世界上非常卓越的高斯束电子束光刻机，我们能够快速制造分辨率低至50 nm的结构。

我们所使用的电子束光刻机的主要功能：

• 100keV的电子能量，可曝光高深宽比结构
• 优秀的图形发生器提供快速曝光
• 衬底尺寸高达150 mm（2〃、4〃、6〃晶圆、芯片、掩模坯料）
• 出色的分辨率、拼接和套刻精度高
• 连续可变的写场尺寸，可用于精确曝光周期性结构

我们的能力：

• 在硅和石英纳米压印模板生产方面具备领先经验
• 特征尺寸(分辨率)低至50nm
• 先进的100kV电子束曝光
• 在Ebeam电子束曝光机方面领先的经验，以较大限度地提高产量和优化图案保真度
• 选择合适的电子束胶以符合应用需求。
• 大至 6“圆形，和5”方形基板
• 可选涂防粘层和切片服务

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